每經AI快訊，有投資者在投資者互動平臺提問：董秘您好。貴司臭氧設備可用于光刻膠清洗，半導體清洗、請問貴司有無相關設備出貨？后續(xù)有無與光刻廠領域的發(fā)展意向？感謝回復~！

國林科技（300786.SZ）9月14日在投資者互動平臺表示，臭氧具有很高的氧化還原電位，具有強氧化特性、高活性的特點，近年來臭氧被認為是一種低成本的“綠色”化學品，是大多數應用的良好選擇，已被廣泛應用于電子工業(yè)中。典型的臭氧應用包括：化學氣相沉積（CVD）、原子層薄膜沉積（ALD）、晶圓清洗、污染物及光刻膠去除、表面處理和氧化物生長等工藝制程中。子公司國林半導體產品從2022年下半年開始進行市場導入，2023年以來陸續(xù)在半導體、面板、科研等行業(yè)領域出貨驗證，未來公司的工作重點將圍繞產品市場推廣及產品迭代展開。

(記者 蔡鼎)

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